供应CHROMIUM ETCHANT 1020、CHROMIUM ETCHANT 1020AC、CHROMIUM MASK ETCHANT、CHROMIUM CERMET ETCHANT TFE 等四种铬蚀刻液以及Indium Tin Oxide Etchant TE-100 锡蚀刻液。其中

CHROMIUM ETCHANT 1020

（铬蚀刻液1020）纯度高、蚀刻速度快（40埃/秒），蚀刻精度高，蚀刻液与正负胶相容性好，使用后用去离子水清洗即可

CHROMIUM ETCHANT 1020AC

（铬蚀刻液1020AC）不含硝酸、蚀刻速度慢从而消除蚀刻过程中的钻蚀（截槽），蚀刻液与正负胶相容性好，使用后用去离子水清洗即可

CHROMIUM MASK ETCHANT

（铬掩膜蚀刻液）高精度的光掩护蚀刻液，无毒害，可视化的蚀刻控制，能精确到亚微米尺度，蚀刻液与正负胶相容性好。

CHROMIUM CERMET ETCHANT TFE

（铬金属陶瓷蚀刻液）专门用于蚀刻沉积在铜、镍或金属上的含铬金属陶瓷，本蚀刻液只与负胶有良好的相容性。

Indium Tin Oxide Etchant TE-100

锡蚀刻液能有效蚀刻涂覆在陶瓷、绝缘体、半导体、以及多种金属上的氧化锡以及氧化锡铟涂层，本蚀刻液与正负胶有很好的相容性。

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范先生

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